气相沉积技术

作者：bearingpower        发表时间：2010-12-12

气相沉积技术关键字： 　　气相沉积技术是利用气相中发生物理、化学过程，在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层。按沉积的主要属性可分为化学气体沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)，等离子体被引入化学气体沉积技术后，便形成等离子化学气相沉积(PCVD)　　气相沉积在工件表面覆盖一层厚度为0.5-10um的过渡族元素(Ti，V，Cr，W，Nb等)的碳、氧、氮、硼化合物或单一的金属及非金属涂层。